LOADING..

前瞻物質基礎與應用
科學中心

中心簡介

「本中心致力於前瞻無機及生醫材料,前者包含了薄膜光電及先進奈米半導體,後者規畫了藥物分子及生醫材料,一共有33位研究人員,包括了化學系、化工系、電機系及材料系,清大及交大的專家,我們的主旨是追求學術卓越,希望和喬治亞理工學院具有相同的學術能量,並且發展關鍵材料新技術,促進台灣半導體及生技產業升級,並培養人才,作為台灣產業人才的後盾。

後疫時代,顯示半導體及生物技術更為重要,科技防疫前者受惠於居家隔離及視訊會議,後者為藥物開發技術。我們必須加強教育人才,發展更尖端的科技,解決年輕人高失業率問題。未來將是一個服務業減少、製造業更加重要的世代。

 

 中心技術 

主要技術一
次要技術一
次要技術二

互動科普小問答

Q:為何先進半導體製程,小於7奈米線寬需要用EUV的光源?
A:在光蝕刻產生的線寬精確度,和光的波長有密切關係,波長越短,精確度就越準,EUV的波長是13.5奈米,比上一代深紫外光183奈米,小了10倍,因此精確度會越準!
1
Q:在光蝕刻的圖案成形,為何要用液體塗佈法做出平整的薄膜?
A:現在的製程,是將光阻的溶液,滴在晶圓中心,在高度旋轉下,極易形成平整的光阻薄膜,比起氣態沉積法又快速又容易操作,也是現有唯一的製程。
2
Q:何謂光阻?
A:光阻是遇到光會有聚合或是分解的現象,以光罩蓋住光阻,再讓光阻曝光,曝光和未曝光兩部分的溶解度會不同。
3
Q:何謂正光阻及負光阻?
A:如果是照光會聚合,溶解度會變差,所以未曝光的部分會被洗掉,是為負光阻,如果照光的部分會分解,溶液溶解度會變好,則為正光阻。
4

前瞻物質基礎與應用科學中心

E-Mail:rsliu@mx.nthu.edu.tw

TEL:886-3-5715131 ext 33385

Location:新竹市光復路二段101號